| 发明名称 |
METHOD TO MANUFACTURE INTEGRATED CIRCUIT, METHOD TO DECREASE DIFFUSION OF P-TYPE DOPANT AND INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08250730(A) |
申请公布日期 |
1996.09.27 |
| 申请号 |
JP19950261795 |
申请日期 |
1995.10.09 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICDS INC |
发明人 |
MOHAMETSUDO ANJIYUUMU;ARAN ERU SUTOYUUBAA;IBURAHIMU KEI BAAKI |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/265;H01L21/336;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/08;(IPC1-7):H01L29/78;H01L21/823 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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