Device for producing plasma using cathodic sputtering and microwave radiation,申请号EP19930103449-传众专利搜索

发明名称	Device for producing plasma using cathodic sputtering and microwave radiation
摘要
申请公布号	EP0563609(B1)	申请公布日期	1996.09.25
申请号	EP19930103449	申请日期	1993.03.04
申请人	LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT	发明人	LATZ, RUDOLF, DR.;RITTER, JOCHEN, DIPL.-ING.;SCHERER, MICHAEL, DR.;GEGENWART, REINER, DR.
分类号	H05H1/46;H01J37/32;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34	主分类号	H05H1/46
代理机构		代理人
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