发明名称 捕捉含氯化合物之解离氯的方法
摘要 本发明系为捕捉含氯化合物之解离氯的方法,熔融金属浴含熔融金属相,其包括金属或盐,以及流体玻璃相,其包括氧化钙,氧化铝和足够二氧化矽以使玻璃相在暴露于含氯化合物之解离氯维持流体。含氯化合物被导入熔融相使氯从化合物中解离,藉此氯移往流体玻璃层而与包括氧化钙的玻璃相产生作用而形成无机氯化化合物,因此捕捉含氯化合物之解离氯。
申请公布号 TW286348 申请公布日期 1996.09.21
申请号 TW085101430 申请日期 1996.02.06
申请人 金属铸造工业技术公司 发明人 杰姆士E.强斯顿;凯西M.萧
分类号 F23G5/00;F23G7/00 主分类号 F23G5/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1. 一种捕捉含氯化合物之解离氯的方法,包括以下 步骤 : (a) 提供一种具备熔融金属相和流体玻璃相的熔融 浴,流 体玻璃相包括氧化钙,氧化铝和足够二氧化矽以使 玻璃相 在暴露于含氯化合物之解离氯维持流体;和 (b) 将含氯化合物导入熔融相,使氯从化合物中解 离,藉 此氯移往流体玻璃层而与包括氧化钙的玻璃相产 生作用而 形成无机氯化化合物,因此捕捉含氯化合物之解离 氯。2. 如申请专利范围第1项的方法,其中熔融浴 更包括熔融 金属相。3. 如申请专利范围第2项的方法,其中氧 化钙浓度范围约 介于35和70%重量。4. 如申请专利范围第3项的方法, 其中二氧化矽浓度范围 约介于25和50%重量。5. 如申请专利范围第4项的方 法,其中玻璃相的氧化铝浓 度多达约40%(重量)。6. 如申请专利范围第2项的方 法,其中熔融金属相包括镍 。7. 如申请专利范围第2项的方法,其中熔融金属 相包括镍 。8. 如申请专利范围第2项的方法,其中 @ps9,9.3 熔融浴的温度范围为约1400和1700℃。9. 如 申请专利范围第8项的方法,其中含氯化合物为有 机 氯化化合物。10. 如申请专利范围第9项的方法,其 中有机氯化化合物 为氯化芳香系。11. 如申请专利范围第10项的方法, 其中氯化芳香系为多 氯联苯。12. 如申请专利范围第10项的方法,其中氯 化芳香系为戴 奥辛。13. 如申请专利范围第9项的方法,其中有机 氯化化合物 为氯化烷类14. 如申请专利范围第1项的方法,其中 无机氯化化合物 为氯化钙。15. 如申请专利范围第1项的方法,其中 玻璃相更包括至 少一选自包括氧化镁,氧化锶,氧化锂,氧化钠或氧 化钾 的组群的化合物。16. 一种捕捉含氯化合物之解离 氯的方法,包括以下步骤 : (a) 提供一种具备熔融金属相和流体玻璃相的熔融 浴,其 中流体玻璃相包括含钙组成物,氧化铝和足够二氧 化矽以 使玻璃相在暴露于含氯化合物之解离氯维持流体; 和 (b) 将含氯化合物导入熔融金属相,使氯从化合物 中解离 ,藉此氯从含氯化物解离而移往到玻璃相,与玻璃 相产生 交互作用,形成无机氯化化合物或错合物,因此捕 捉含氯 化合物之解离氯。17. 如申请专利范围第16项的方 法,其更包括以下步骤: (a) 从浴中的熔融部份除去一部份含无机氯化化合 物的玻 璃相;和 (b) 以无机氯化化合物含量减少的玻璃相取代被除 去的玻 璃相部份。18. 如申请专利范围第17项的方法,其中 含钙组成物包括 氧化钙和选自包括氧化镁,氧化锶,氧化锂,氧化钠 和氧 化钾的化合物。19. 一种捕捉含氯化合物之解离氯 的玻璃组成物,其包括 含流体玻璃相的熔融浴,流体玻璃相包括氧化钙, 氧化铝 和足够二氧化矽以使玻璃相在暴露于含氯化合物 之解离氯 维持流体。图示简单说明: 图1为适合本发明方法使用于捕捉含氯化合物之解 离氯的 代表系统示意图。 图2为氧化钙,二氧化矽和氧化铝系统的三相图,其 系为 重量百分比,其经证实为1600℃之三相系统捕捉氯 区域。 图3为55%氧化钙-5%氧化铝和40%二氧化矽和40%氧化铝 -10 %氧化铝-50%二氧化矽系统之重量损失重量百分比( 莫耳百 分率)为取代氧化钙的氯化钙含量的函数图。 图4为玻璃转移温度为取代55%氧化钙-5%氧化铝和40% 二氧 化矽和40%氧化铝-10%氧化铝-50%二氧化矽系统的氯 化钙 含量(莫耳百分率)的函数图。 图5为释放的氯化氢莫耳数对氯化氢/氩气混合物 被导入 熔融铁浴的含各种流体玻璃层之熔融铁浴的时间 的作图。 图6为释放的氯化氢莫耳数对氯化氢/氩气混合物 被导入 熔融铁浴的含各种流体玻璃层之熔融铁浴的时间 作图(第 二)。 图7为释放的氯化氢莫耳数对氯化氢/氩气混合物 或氯化 氢/一氧化碳/氢氢混合物被导入熔融铁浴的含各 种流体
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