发明名称 PLASMA CHAMBER WITH FIXED RF MATCHING CIRCUIT
摘要
申请公布号 JPH08236412(A) 申请公布日期 1996.09.13
申请号 JP19950312659 申请日期 1995.11.30
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 JIYUN TSUAO;SUTEFUAN URUFU;KENESU SUMISU;UIRIAMU NIKUSON TEIRAA JIYUNIA;JIERARUDO MAKUNATSUTO
分类号 H01L21/02;H01J37/32;H05H1/46;(IPC1-7):H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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