| 发明名称 |
ION SOURCE AND ION IMPLANTATION DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH08236061(A) |
申请公布日期 |
1996.09.13 |
| 申请号 |
JP19950037078 |
申请日期 |
1995.02.24 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SEKI TAKAYOSHI;TOKIKUCHI KATSUMI;AMAMIYA KENSUKE |
| 分类号 |
C23C14/48;C23F4/00;H01J37/08;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/305 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
