发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA DEPOSITION ON A DOUBLE-SIDED SUBSTRATE
摘要 <p>Le procédé suivant l'invention est du genre suivant lequel, pour le dépôt d'au moins une couche mince sur un substrat (10) à deux faces (11A, 11B), on met en ÷uvre un plasma en coopération avec lequel intervient un fluide précurseur dont les produits de réaction avec le plasma donnent naissance au dépôt recherché. Suivant l'invention, pour un traitement simultané des deux faces (11A, 11B) du substrat (10), il est mis en ÷uvre deux plasmas (12A, 12B) distincts, l'un intervenant du côté d'une des faces (11A, 11B) de ce substrat (10), l'autre intervenant du côté de l'autre de celles-ci. Application, notamment, au traitement antireflet d'une lentille ophtalmique en matériau organique.</p>
申请公布号 WO1996027690(A1) 申请公布日期 1996.09.12
申请号 FR1996000352 申请日期 1996.03.06
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址