| 发明名称 | 防止含杂绝缘层吸潮的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种防止含杂绝缘层吸潮的方法，其包括步骤：在一个基底上形成一个含杂绝缘层；和在含杂绝缘层上涂覆一层醇基物质，形成一个醇膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1130805A | 申请公布日期 | 1996.09.11 |
| 申请号 | CN95119957.9 | 申请日期 | 1995.11.02 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 李相奎 |
| 分类号 | H01L21/56 | 主分类号 | H01L21/56 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 马涛 |
| 主权项 | 1、一种防止含杂绝缘层吸潮的方法，包括步骤：在一个基底上形成一含杂绝缘层；和在所述含杂绝缘层上涂覆一层醇基物质，以形成一醇膜。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||