| 发明名称 |
METHOD FOR TREATING WASTE LIQUID FROM NONELECTROLYTIC PLATING PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08229577(A) |
申请公布日期 |
1996.09.10 |
| 申请号 |
JP19960000062 |
申请日期 |
1996.01.04 |
| 申请人 |
AT & T CORP |
发明人 |
YUUGEN PASUKARU FUOOKURAA JIYUNIA;SUDAASHIYAN RARU |
| 分类号 |
C02F1/32;C02F1/58;C02F1/62;C02F1/72;C02F9/00;C23C18/16;(IPC1-7):C02F1/72 |
主分类号 |
C02F1/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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