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发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
摘要
申请公布号 DE69120975(D1) 申请公布日期 1996.08.29
申请号 DE1991620975 申请日期 1991.01.11
申请人 NEC CORP., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 NAKANO, EIICHI, MINATO-KU, TOKYO, JP
分类号 H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/321 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
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