PROCESO PARA PRODUCIR UN DEPOSITO DE SILICE EN LA SUPERFICIE DE UN PRODUCTO DE CRISTAL

摘要

Se forma un depósito de una capa con base de sílice sobre una superficie de un objeto de vidrio proyectando, sobre una superficie caliente del objeto, en atmósfera ambiental no confinada, una mezcla gaseosa que tiene un tenor de silano inferior a 2, un tenor de oxígeno comprendido entre 3,5 y 30 y ventajosamente un tenor de hidrógeno inferior al 5. La superficie del objeto a tratar es ventajosamente calentada inmediatamente antes de su pasaje por el puesto de inyección.