| 发明名称 |
GAS FLUID TREATMENT DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08210976(A) |
申请公布日期 |
1996.08.20 |
| 申请号 |
JP19940091679 |
申请日期 |
1994.04.28 |
| 申请人 |
FENWALL CONTROLS OF JAPAN LTD |
发明人 |
FUIRITSUPU EDOWAADO HAAREI |
| 分类号 |
G01N1/00;G01N1/22;G01N21/53;G08B17/117;(IPC1-7):G01N21/53 |
主分类号 |
G01N1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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