| 发明名称 |
MAKING METHOD OF METALOXIDE SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR960000224(B1) |
申请公布日期 |
1996.01.03 |
| 申请号 |
KR19870009008 |
申请日期 |
1987.08.18 |
| 申请人 |
INTEL CORP. |
发明人 |
BEEN - JOHN, WOO;MARK A. HOLLER;ENDER MOKELEK;SANDRA S. LEE |
| 分类号 |
H01L21/336;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L27/088;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/78 |
主分类号 |
H01L21/336 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
