| 主权项 |
1. 一种具有多数邻接安排之金属元件(11)之冶金容 器(1) 基底阳极(10)的制造方法,特别用于电弧炉(1),在金 属 元件(11)之中间空隙(14)填满耐热材料(16),而耐热材 料 (16)已被压缩,其特征在于耐热材料(16)藉由一种构 形配 合电弧炉基底阳极构形之振动机构(17)所振动进行 压缩。2. 如申请专利范围第1项之方法,其特征在 于振动发生之 频率为80至120赫芝,较佳为100赫芝。3. 如申请专利 范围第1或第2项之方法,其特征在于耐热 材料(16)之振动,大约在其整体高度进行,即大约涵 盖金 属元件(11)的整体高度。4. 如申请专利范围第1项 之方法,其特征在于振动机构( 17,17'),被塞入于金属元件(11)间之中间空隙(14)内, 其剖面形状与金属元件(11)间之中间空隙(14)的几 何形状 相匹配,原先之间隙在金属元件(11)间,保持可自由 进出 ,而振动机构(17)之间隙内,在振动发生时,塞入耐热 材 料(16)。5. 如申请专利范围第1项之方法,其特征在 于耐热材料( 16),在至少两组中被塞入。6. 如申请专利范围第5 项之方法,其特征在于振动机构( 17),最初在金属元件(11)间之中间空隙被塞入,当振 动 机构(17,17')和金属元件(11)间的间隙,被耐热材料(16 )填满至金属元件(11)最大高度(25)的一半时,较佳为 最 大高度的三分之一时,振动机构(17,17')已振动之后, 振动在进行填塞耐热材料(16)中,被保持而持续的 提高振 动机构(17,17')。7. 如申请专利范围第1项之方法,其 特征在于耐热材料( 16)之振动,藉由基底阳极(10)之金属元件(11)振动而 发 生,其振动机构(17'')与基底阳极(10)之金属元件(11) 相 耦合。8. 一种实施如申请专利范围第1项之方法之 装置,其特征 在于振动机构(17,17'),于其振动马达(19)上和从其突 出之振动元件(23)有一个架构(18),在其基底阳极(10) 之 金属元件(11)间的中间空隙(14),与其剖面地区相配 合。9. 如申请专利范围第8项之装置,其特征在于 振动元件( 23),具有至少大约与基底阳极(10)之金属元件(11)的 高 度(25)相对应之长度。10. 如申请专利范围第8或第9 项之装置,基底阳极(10)之 金属元件(11),是以铁板薄片的方式设计,并以几个 同心 环的方式安排,其特征在于振动机构(17)之振动元 件(23) ,是由铁板薄片(23)组成,其亦为同心环状,可在基底 阳 极(10)之铁板薄片(11)间被塞入。11. 如申请专利范 围第10项之装置,其特征在于基底阳极 (10)之铁板薄片(11,23)和振动机构(17,17'),被安置 成为多角正棱柱形。12. 如申请专利范围第10项之 装置,其特征在于基底阳极 (10)之铁板薄片(11,23)和振动机构(17')被安置成为密 闭环状的区间。13. 如申请专利范围第8项之装置, 其特征在于振动机构 之铁板薄片(23)间之间隙,形成一环状或一区间。14 . 一种实施如申请专利范围第1,2或6项之方法之装 置 ,其特征在于振动机构(17''),具有至少一个振动马 达( 19)被固定之架构(28),而此架构(28)具有至少可与基 底 阳极(10)成比例之金属元件(11)相耦合的耦合元件( 30)。15. 如申请专利范围第12项之装置,其特征在于 当此架构 (28)置于金属元件(11)上时,耦合元件(30)在基底阳极 ( 10)突出之金属元件(11)自由尾端中,形成狭缝状的 凹处 。16. 一种用于如申请专利范围第1项所制冶金容 器(1)中之 基底阳极(10),此基底阳极(10)在耐热材料间,具有多 种 密闭邻接之金属元件(11),其特征在于耐热材料(16), 有 大于2.65kg/dm@su3之压缩度,较佳之压缩度约为2.8kg/ dm@su3。17. 如申请专利范围第16项之基底阳极,其特 征在于基底 阳极(10)具有铁板薄片(11),其被安置于几个同心环 状中 ,环状至环状间的直径距离小于200毫米。图示简单 说明: 图1所示为垂直部位之直流电弧炉,而 图2是图1中沿直线II—II的剖面,两者均为图示。 图3所示为还未填塞耐热衬里材料之电弧炉基底阳 极的透 视图。 图4所示为一个属于基底阳极设计之振动机构。 图5所示为一个由几个区域组成之基底阳极的区域 ,即为 其铁板薄片元件,而 图6所示为依此发明之振动机构,其亦为一个透视 图。 图7所示为依此发明,振动机构之简化实施例的透 视图。 图8所示为在压缩期间,放大尺寸之振动机构,在图7 中 |
