FORMATION OF INTERLAYER INSULATION FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号JP19950010043-传众专利搜索

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发明名称	FORMATION OF INTERLAYER INSULATION FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	JPH08203890(A)	申请公布日期	1996.08.09
申请号	JP19950010043	申请日期	1995.01.25
申请人	SONY CORP	发明人	MUROYAMA MASAKAZU
分类号	H01L21/3205;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/316;H01L21/320	主分类号	H01L21/3205
代理机构		代理人
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