发明名称 |
测量涂层厚度的装置 |
摘要 |
一种测量形成在一元件表面上的涂层厚度的装置,包括射出被元件表面反射的光束的白光源,一个或多个滤光器,各滤器可在一选取的波长范围内过滤该反射光束,与滤光器数量相同的光电探测单元,各光电探测单元用于将该反射光束的强度转换成一带有逻辑高及低状态的计数基准信号,一用于对逻辑高状态计数并生成一计数数字的计数器及一基于该计数数字计算涂层厚度的信号处理器。各光电探测单元有一光电探测器、一安培至电压转换器、一峰值电压值检测器及一比较器。 |
申请公布号 |
CN1128346A |
申请公布日期 |
1996.08.07 |
申请号 |
CN95116985.8 |
申请日期 |
1995.09.19 |
申请人 |
大宇电子株式会社 |
发明人 |
尹熙星 |
分类号 |
G01B11/06;////(G01B121:00) |
主分类号 |
G01B11/06 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
蹇炜 |
主权项 |
1、一种现场测量涂覆在一带有涂覆表面的物品的表面上的透明涂覆材料的厚度的装置,该装置包括:一白光源,用于射出一光束至物品的表面上,其中该光束在该透明涂覆材料的涂层表面被部分反射生成一第一反射光束,并被部分地透射,该透射的部分随后被该物品的表面反射回该涂层表面,生成一第二反射光束,其中该第一及第二反射光束由于其间的相位差而相互干涉,从而产生一干涉的反射光束;一个或多个滤光器,各滤光器能在一选取的波长范围内对该干涉的反射光束进行过滤,从而产生具有一选取的波长范围的一过滤光束;与并行配置的滤光器数量相同的光电探测单元,各光电探测单元可探测来自相应滤光器的过滤光束的强度并自其生成一计数基准信号,其中各光电探测单元包括:一光电探测器,用于探测来自相应滤光器的过滤光束的强度将其转换成一对应的电流信号,其中该电流信号呈现有多个电流峰值;一安培至电压转换器,能将来自光电探测器的电流信号转换成一相应的电压信号,该电压信号呈现有多个电压峰值,备电压峰值具有一相关峰值并对应于各电流峰值;一峰值电压值探测器,用于探测来自安培至电压转换器的电压信号中的峰值电压值;及一比较器,用于将这些峰值电压值分别与一预定的阈值比较,从而产生具有逻辑高及低状态的计数基准信号;一计数器,用于对该计数基准信号的逻辑高状态进行计数,从而产生一计数数字;及一信号处理器,用于基于该计数数字自多个预定的涂层厚度中选取该涂层厚度。 |
地址 |
韩国汉城 |