发明名称 化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置
摘要 本创作系关于一种化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置,尤指一种可供与化学机械研磨(CMP)机台之废液排流管结合,令使用过的研磨剂及去离子水回收再利用,包括可受控于CMP机具之控制讯号而相应启闭之电磁阀,而使机具排流管送出之研磨剂可送入至储存槽储存,再透过帮浦输送通过一研磨剂过滤器而再送出至机具研磨剂入口处以及经由过滤器下方之循环管回送至储存槽中,形成回收回路及储存槽循环回路(防止沈淀及维持微粒子尺寸大小),而在机具仅进行去离子水喷洒作业期间,则将排流管送入之去离子水转而由一去离子水过滤器过滤(过滤杂质)再回送至去离子水回收系统中。
申请公布号 TW413104 申请公布日期 2000.11.21
申请号 TW086210195 申请日期 1997.06.20
申请人 哈比.彼德 发明人 哈比.彼德
分类号 B24B57/00;B24B7/20;H01L21/304 主分类号 B24B57/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装 置,为一连接于化学机械研磨机之废液排流 管处之装置,为以控制电路、研磨剂储存槽、研磨 剂过滤器、去离子水过滤器以及多数控制 阀所构成,其特征在于: 该控制电路,为可接收化学机械研磨机之控制讯号 而进行计时控制而驱动控制阀之启闭或流 向; 该研磨剂储存槽,以不产生剥落或污染之铁氟龙( PFA)或高密度聚乙烯(PE)材料构成,可供 储存由化学机械研磨机之排流管所送出之废弃的 研磨剂; 该研磨剂过滤器,可接收研磨剂储存槽送出之研磨 剂,并过滤出预定微粒尺寸的研磨剂后, 再回送至化学机械研磨机的研磨剂入口处,供再利 用,而在研磨剂过滤器更连接有一循环管 至研磨剂储存槽处,令研磨剂得在储存槽与过滤器 之间不间断地循环流动,使研磨剂中之微 粒子保持在悬浮状态而不致沈淀; 该去离子过滤器,可在化学机械研磨机台处于仅进 行去离子水喷洒的状态下,接收由化学机 械研磨机排流管所送出之去离子水,经过滤去除所 含的杂质后,送往去离子水回收系统中; 该等控制阀,为分设在化学机械研磨机之排流管与 研磨剂储存槽之入口之间以及设在研磨剂 储存槽出口上,且各控制阀为受控制电路作用而启 闭; 藉以构成一可供回收化学机械研磨机研磨剂及去 离子水的回收装置者。2.如申请专利范围第1项所 述之化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置, 其中该化学机 械研磨机之排流管送入处连接一可侦测流量而自 动启闭之帮浦。3.如申请专利范围第1项所述之化 学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置,其中该 等控制 阀为电磁阀者。4.如申请专利范围第1项所述之化 学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置,其中该 位在研 磨剂储存槽入口处之控制阀为具有多向出口,可分 别与去离子水过滤器及排放出口连接,而 可经控制电路控制其流向研磨剂储存槽、去离子 过滤器或排放出口。5.如申请专利范围第1项所述 之化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置,其 中位在研磨 剂储存槽出口位置之控制阀更串接有一受控于该 控制电路之帮浦。6.如申请专利范围第1项所述之 化学机械研磨机研磨剂及去离子水回收装置,其中 该控制电 路为包括一电源供应器、一计时器/继电器控制板 ,可受化学机械研磨机送入之讯号而进行 控制阀计时启闭或改变控制阀流向者。图式简单 说明: 第一图:系本创作之系统回路配置图。 第二图:系本创作之管路配置实施例图。 第三图:系本创作之研磨剂过滤器的微粒过滤范围 示意图。 第四图:系化学机械研磨机之研磨剂的微粒尺寸分 布示意图。
地址 新竹巿富群街六巷四弄十二号
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