| 主权项 |
1. 一种气相成长机构及热处理机构之加热装置,系 用以 包围在一内部可容纳其上以所定排列姿势支持有 许多欲施 以气相成长、热扩散或热处理之被加工处理材的 支持体之 采石英或碳化矽等制成的反应管之周围,而将该反 应管全 长以圆筒型之加热装予以包覆而构成之装置,其特 征在于 该加热装置之前后端所具开口部系以辅助加热体 予以封闭 ,而将内部之反应管整体包覆者。2. 依申请专利范 围第1项之气相成长机构及热处理机构之 加热装置,其中该辅助加热体穿设有一导管插通孔 ,可供 自包覆反应管全长外周之加热装置的一端突出并 连通上述 反应管之排气导管插入贯通,而将此辅助加热体对 准上述 排气导管套入并密接于加热装置之开口部,而封闭 此开口 部为其特征者。3. 依申请专利范围第1项之气相成 长机构及热处理机构之 加热装置,系一种将反应管之外周沿反应管之全长 用加热 装置予以包覆而构成之装置,其中上述反应管之后 端设有 供其上定位支持有许多被加工处理材之支持体搬 入、搬出 之搬送口,该搬送口装设有可开闭此搬送口之开闭 门扉体 ,此开闭门扉体之外侧面设有辅助加热体为其特征 者。4. 依申请专利范围第3项之气相成长机构及热 处理机构之 加热装置,其中该开闭门扉体周围设有突缘,能密 接于反 应管之一端所设搬送口之周缘,开闭门扉体之主要 部份则 形成能自上述反应管之搬送口往内深入之凹入部, 该凹入 部之凹处并定设有辅助加热体为其特征者。图示 简单说明: 图1系本发明装置整体之剖视图; 图2系习知技术之卧型装置之剖视图; |
