摘要 |
<p>Bei einem Plasmareaktor zum Erzeugen und Unterhalten eines Plasmas ist ein Hohlraumresonator (11) vorgesehen, dessen Querschnitt in Scheitelbereichen (13, 16) verjüngt ist. Die Wandung (14) des Hohlraumresonators (11) ist in den Scheitelbereichen (13, 16) soweit geschlossen, daß eine angeregte Feldmode im Bereich der Querschnittsverengungen Hauptmaxima (15, 31) aufweist, deren Maximalfeldstärke gegenüber den Feldstärken benachbarter Nebenmaxima überhöht ist. Im Bereich eines Hauptmaximums (31) ist eine Reaktionseinheit (18) mit einem zu bearbeitenden Substrat (21) vorgesehen, das aus der Gasphase des Plasmas (32) beschichtbar ist. Durch die sich mit einem Hohlraumresonator (11) der angegebenen Gestalt ergebende Feldstärkeverteilung mit gegenüber Nebenmaxima stark überhöhten Hauptmaxima (15, 31) sind Prozeßparameter wie Gasdruck und eingekoppelte elektromagnetische Leistung bei einer stabilen Lage des Plasmas (32) weitestgehend unabhängig voneinander wählbar, ohne daß es zu einer unerwünschten Zündung des Plasmas (32) im Bereich von Nebenmaxima kommt. Weitherhin ist durch die verhältnismäßig homogene Feldstärkeverteilung in dem das Plasma (32) unterhaltenden Hauptmaximum (31) eine gleichmäßige Bearbeitung des Substrates (21) erzielt.</p> |