发明名称 | 金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的装置与方法 | ||
摘要 | 本发明提出了一种用于生长GaN及其有关化合物单晶薄膜的装置及方法。同轴双管分流器把NH<SUB>3</SUB>气与III族有机源分别输运,可方便地调整它们的混合点,使两种气体快速混合并层流扩展,最大限度地减小气相副反应;气流压缩型MOVPE反应系统,可获得高质量均匀的GaN及其有关化合物单晶薄膜,。提高材料的利用效率达6-7倍。可用于GaN-based兰光LED和LD的生产和研究,亦可用于GaN高温,大功率电子器件等方面的应用研究。 | ||
申请公布号 | CN1127804A | 申请公布日期 | 1996.07.31 |
申请号 | CN95101275.4 | 申请日期 | 1995.01.27 |
申请人 | 北京大学 | 发明人 | 张国义;童玉珍;党小忠;金泗轩 |
分类号 | C30B25/02;C30B29/38 | 主分类号 | C30B25/02 |
代理机构 | 北京大学专利事务所 | 代理人 | 陈美章 |
主权项 | 1、一种金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的装置,它包括:气体输运系统、反应系统及压力和温度控制系统,其特征是:1)该装置设计了同轴双管分流器,它是由不锈钢的内管与外管,聚四氟A变径接头和不锈钢B变径接头构成的,与气体输运系统连接,将NH3气和H2+TMR气体分别引入内管及外管里(图1)。2)在同轴双管分流器的后面连接反应系统,它是采用压缩型MOVPE反应管,包括进气管,气流扩展区、矩形区、气流压缩区和后部排气区,由高纯石英和高纯石墨加热器构成,该反应管之上管壁可有倾斜角为α,其下管壁上的石墨加热器的倾斜角为θ(图1),形成衬底表面上方的气流压缩(图3b)。 3)在同轴双管分流器的进口端,采用了A变径接头(3)同轴联接内管与外管,在该分流器的另一端采用了B变径接头(4),且B变径接头(4)与不锈钢管间的连接是用VCR接头,而其与石英反应管间的连接采用高温密封环实现的。4)同轴双管分流器内管(2)的出气点位置(6)即为气体的混合点,该混合点的位置是可以通过调整内管(2)的长度,来实现对两种气体混合点的调节。 | ||
地址 | 100871北京市海淀中关村北京大学 |