填补凹槽的方法

摘要

本发明系有关一种可减少粒子缺陷之填补浅沟渠隔离凹槽的方法，该方法包括：首先，以慢速度沈积氧化层，并提供第一偏压电源与第一源压电源；接着，停止供应沈积用的反应气体至反应室中，并提供转换步骤偏压电源与转换步骤源压电源，其转换步骤偏压电源介于第一偏压电源与第二偏压电源之间，转换步骤源压电源介于第一源压电源与第二源压电源之间；最后，以快速度沈积氧化层，并提供第二偏压电源与第二源压电源。