| 主权项 |
1.一种用于清洗聚合物件之装置,包含: 一长形清洗槽,其具有一在该清洗槽的纵方向延伸 且由一驱动源所驱动之旋转轴,该清洗槽具有一供 水埠及一排水埠以及位于一端之一聚合物件导入 埠及位于另一端之一聚合物件排出埠; 一螺旋部,其与该旋转轴为一体以藉由与该旋转轴 一起转动该清洗槽内的水而使水在该清洗槽中从 该一端往该另一端前进;及 一静态板,其从该清洗槽的一内表面直立站起以限 制该螺旋部所造成之水的前进,且在该静态板的一 表面的至少一部份上具有一粗糙段。 2.如申请专利范围第1项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该螺旋部设置于该清洗槽的一纵向段中, 且在一表面的至少一部份上具有一粗糙段之旋转 板系在未设有螺旋部的一段中从该旋转轴的圆周 直立站起,藉以限制该螺旋部所造成之水的前进作 用。 3.如申请专利范围第2项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该旋转板的位置可使得该旋转板的一梢端 与该静态板的一梢端呈现交错状。 4.一种用于清洗聚合物件之装置,包含: 一管状清洗槽,其具有位于一端之一聚合物件导入 埠及位于另一端之一聚合物件排出埠;及 复数个螺旋段及复数个流径限制段,其交错式配置 在该清洗槽内的纵方向中; 其中该螺旋段各包含一设置于一旋转轴上之螺旋 部,该旋转轴以可旋转方式固持在该清洗槽中,及 该流径限制段各包含从该清洗槽的内表面直立站 起之复数个静态板以及复数个旋转板,该等复数个 旋转板系配置为使得该等旋转板的端表面与该等 静态板的端表面呈现相对而在两者之间具有一预 定间隙。 5.如申请专利范围第4项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该清洗槽的一管状内表面、该旋转轴的一 暴露表面、该螺旋部的一叶片表面、该旋转板的 一端表面及该静态板的一端表面之其中至少一者 系具有一粗糙化段。 6.如申请专利范围第5项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该粗糙化段的表面粗度具有40至2000微米范 围的最大高度。 7.如申请专利范围第5项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该粗糙化段的表面粗度具有50至1000微米范 围的最大高度。 8.如申请专利范围第5项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该粗糙化段的表面粗度具有60至500微米范 围的最大高度。 9.如申请专利范围第4项之用于清洗聚合物件之装 置,其中该螺旋叶片的节距系为0.3D至3D的范围且D 为该螺旋叶片的直径。 10.如申请专利范围第4项之用于清洗聚合物件之装 置,其中决定该聚合物件导入埠及排出埠的尺寸以 让该聚合物件具有1至45公厘范围的长度且可通过 该聚合物件导入埠及排出埠。 图式简单说明: 图1A为根据本发明的一实施例之清洗装置的示意 正视图; 图1B为一双轴型清洗装置的剖视图; 图1C为一单轴型清洗装置的剖视图; 图2A为显示在图1A中由二点式破折线所包围的一区 域之详细结构的剖视图; 图2B为说明间隙的定义之放大剖视图; 图3A至3C分别为图2A显示部份除外之流径限制构件 的其他实施例之剖视图。 |
