| 主权项 |
1. 一种湿式处理设备,包括一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b)用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水;一第一储存槽(11-1),用以储存该阳极活性水;一第一处理槽(3'-1,3"-1),用以自该第一储存槽接收该阳极活性水以该阳极活性水处理一第一目标(303,331)并自其排放第一水;一第一重活化回馈装置(12-1-16-1),用以重活化该第一水并馈送重活化之第一水回至该电解槽之该阳极电极附近;一第二储存槽(11-2),用以储存该阴极活性水;一第二处理槽(3'-2,3"-2),用于自该第二储存槽接收该阴极活性水以该阴极活性水处理一第二目标(303,331)并自其排放第二水;及第二重活化回馈装置(12-2-16-2),用于重活化该第二水并馈送重活化之第二水回至该电解槽中该阴极电极附近。2. 如申请专利范围第1项之设备,其中该电解槽包括:一槽,分隔成第一和第二室以分别装入该阳极电极和该阴极电极;及第一和第二施压装置,用以使用不活性气体施加压力至该第一和第二室。3. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽是用含氟塑胶制造。4. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽是用涂布金属之结晶石英制造。5. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽包括一冷却盘管(1103)用以冷却相关之该阳极活性水及该阴极活性水之一。6. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽包括一构件(1112),用以循环冷却剂通过其间。7. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽是用光遮蔽材料制造。8. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽是用热绝缘材料(1102,1110)制造。9. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽包括一窗孔(1111),用以使电磁汲通过其间。10. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一和第二储存槽之每一槽包括一封顶容器。11. 如申请专利范围第10项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1105),用以导入不活性气体至其中。12. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二储存槽之每一槽包括一液面测感器(S2),用以检测该阳极活性水及该阴极活性水相关之一之液位。13. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二储存槽之每一槽包括一pH测感器(S3),用以检测该阳极活性水及该阴极活性水相关之一之pH値。14. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二储存槽之每一槽包括一氧化还原电势测感器(S4),用以检测该阳极活性水及该阴极活性水相关之一之气化还原电热。15. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二储存槽之每一槽包括一粒子测感器(S5),用以检测该阳极活性水及该阴极活性水相关之一之诸粒子。16. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二储存槽之每一槽包括一温度测感器(S1),用以检测该阳极活性水及该阴极活性水相关之一之温度。17. 如申请专利范围第1项之设备,又包括:一过滤器装置(305,306),用以过滤该第一及第二处理槽之该阳极活性水及该阴极活性水;一回馈装置(304),用以分别馈送由该过滤器过滤之该阳极活性水及该阴极活性水回至该第一及第二处理槽。18. 如申请专利范围第17项之设备,又包括:一温度检测装置(311),用以检测在该第一及第二处理槽内该阳极活性水及该阴极活性水之温度;及一控制装置,用以根据其间检出之温度控制该回馈装置内该阳极活性水及该阴极活性水之温度。19. 如申请专利范围第1项之设备,又包括一装置(18-1,18-2),用以供应一混合液至该第一及第二处理槽。20. 如申请专利范围第1项之设备,其中该第一及第二处理槽之每一槽包括一封顶容器。21. 如申请专利范围第20项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1106,1107),用以导入不活性气体至其中。22. 如申请专利范围第1项之设备,又包括一超音波波振动施加装置(312,313),用以施加至该第一及第二处理槽。23. 如申请专利范围第1项之设备,又包括加热器装置(341,344,345),用以加热该第一及第二处理槽。24. 如申请专利范围第23项之设备,其中该加热器装置包括一灯装置(344)。25. 如申请专利范围第1项之设备,又包括:一第一阀装置(V1),联结至该第一及第二处理槽相关之一槽,用以供应电解液至其中;一第二阀装置(V4),联结至该第一及第二处理槽相关之一槽,用以供应纯水至其中;一第三阀装置(V5),联结至该第一及第二处理槽相关之一槽,用以排放该电解液和该钝水之一;及一控制装置,用以开启该第二及第三装置并关闭该第一阀装置,因此清除该第一及第二处理槽相关之一槽。26. 一种湿式处理设备,包括:一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b),用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水,一储存槽(11-1),用以储存该阳极活性水;一处理槽(3'-1,3"-1),用以自该储存槽接收该阳极活性水以该阳极活性水处理一目标(303,331)并自其排放水;及一重活化回馈装置(12-1-16-1),用以重活化该水并馈送重活化之水回至该电解槽之该阳极电极附近。27.如申请专利范围第26项之设备,其中该电解槽包括:一槽,分隔成第一和第二室分别装入该阳极电极和该阴极电极;及第一和第二施压装置,用以使用不活性气体施加压力至该第一和第二室。28. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽是用含氟塑胶制造。29. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽是用涂布金属之结晶石英制造。30. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一冷却盘管(1103),用以冷却该阳极活性水。31. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一构件(1112),用以循环冷却剂通过其间。32. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽是用光遮蔽材料制造。33. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽是用热绝缘材料(1102,1110)制造。34. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一窗孔(1111),用以使电磁波通过其间。35. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一封顶容器。36. 如申请专利范围第35项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1105),用以导入不活性气体至其中。37. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一液面测感器(52),用以检测该阳极活性水之液位。38. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一pH测感器(S3),用以检测该阴极活性水之pH値。39. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一氧化还原电势测感器(S4),用以检测该阳极活性水之氧化还原电势。40. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一粒子测感器(S5),用以检测该阳极活性水之诸粒子。41. 如申请专利范围第26项之设备,其中该储存槽包括一温度测感器(S1),用以检测该阳极活性水之温度。42. 如申请专利范围第26项之设备,又包括:一过滤器装置(305,306),用以过滤该处理槽之该阳极活性水;及一回馈装置(304),用以馈送由过滤器装置过滤之该阳极活性水回至该处理槽。43. 如申请专利范围第42项之设备,又包括:一温度检测装置(311),用以检测该处理槽内该阳极活性水之温度;及一控制装置,用以根据其间检出之温度控制该回馈装置内该阳极活性水之温度。44. 如申请专利范围第26项之设备,又包括一装置(18-1,18-2),用以供应一混合液至该处理槽。45. 如申请专利范围第26项之设备,其中该处理槽包括一封顶容器。46. 如申请专利范围第45项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1106,1107),用以导入不活性气体至其中。47. 如申请专利范围第26项之设备,又包括一超音波振动施加装置(312,313),用以施加至该处理槽。48. 如申请专利范围第26项之设备,又包括一加热器装置(341,344,345),用以加热该处理槽。49. 如申请专利范围第48项之设备,其中该加热装置包括一灯装置(344)。50. 如申请专利范围第26项之设备,又包括:一第一阀装置(V1),联结至该处理槽,用以供应电解液至其中;一第二阀装置(V4),联结至该处理槽,用以供应纯水至其中,一第三阀装置(V5),联结至该处理槽,用以排放该电解液和该纯水之一;及一控制装置,用以开启该第二和号第三阀装置并关闭该第一阀装置,因此清除该处理槽。51. 一种湿式处理设备,包括:一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b),用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水;一储存槽(11-2),用以储存该阴极活性水;一处理槽(3'-2,3"-2),用以自该储存槽接收该阴极活性水,以该阴极活性水处理一目标(303,331)并自其排放水;及一重活化回馈装置(12-2-16-2),用以重活化该水并馈送重活之水回至该电解槽之该阴极电极附近。52. 如申请专利范围第51项之设备,其中该电解槽包括:一槽,分隔成第一和第二室分别装入该阳极电极和该阴极电极;及第一和第二施压装置,用以使用不活性气体施加压力至该第一和第二室。53. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽是用含氟塑胶制造。54. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽是用涂布金属之结晶石英制造。55. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一冷却盘管(1103),用以冷却该阴极活性水。56. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一构件(1112),用以循环冷却剂通过其间。57. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽是用光遮蔽材料制造。58. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽是用热绝缘材料(1102,1110)制造。59. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一窗孔(1111),用以使电磁波通过其间。60. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一封顶容器。61. 如申请专利范围第60项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1105),用以导入不活性气体至其中。62. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一液面测感器(52),用以检测该阴极活性水之液位。63. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一pH测感器(S3),用以检测该阴极活性水之pH値。98. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一氧化还原电势测感器(S4),用以检测该阴极活性水之氧化还原电势。99. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一粒子测感器(S5),用以检测该阴极活性水之诸粒子。100. 如申请专利范围第51项之设备,其中该储存槽包括一温度测感器(S1),用以检测该阴极活性水之温度。101. 如申请专利范围第51项之设备,又包括:一过滤器装置(305,306),用以过滤该处理槽之该阴极活性水;及一回馈装置(304),用以馈送由过滤器装置过滤之该阴极活性水回至该处理槽。102. 如申请专利范围第67项之设备,又包括:一温度检测装置(311),用以检测该处理槽内该阴极活性水之温度;及一控制装置,用以根据其间检出之温度控制该回馈装置内该阴极活性水之温度。103. 如申请专利范围第51项之设备,又包括一装置(18-1,18-2),用以供应一混合液至该处理槽。104. 如申请专利范围第51项之设备,其中该处理槽包括一封顶容器。105. 如申请专利范围第70项之设备,其中该封顶容器具有一气体导入装置(1106,1107),用以导入不活性气体至其中。106. 如申请专利范围第51项之设备,又包括一超音波振动施加装置(312,313),用以施加至该处理槽。107. 如申请专利范围第51项之设备,又包括一加热器装置(341,344,345),用以加热该处理槽。108. 如申请专利范围第73项之设备,其中该加热装置包括一灯装置(344)。109. 如申请专利范围第51项之设备,又包括:一第一阀装置(V1),联结至该处理槽,用以供应电解液至其中;一第二阀装置(V4),联结至该处理槽,用以供应纯水至其中,一第三阀装置(V5),联结至该处理槽,用以排放该电解液和该纯水之一;及一控制装置,用以开启该第二和号第三阀装置并关闭该第一阀装置,因此清除该处理槽。110. 一种湿式处理设备,包括一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b)用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水;一第一储存槽(11-1),用以储存该阳极活性水;一第一处理槽(3'-1,3"-1),用以自该第一储存槽接收该阳极活性水以该阳极活性水处理一第一目标(303,331)并自其排放第一水;一第一重活化回馈装置(12-1-16-1),用以重活化该第一水并馈送重活化之第一水回至该电解槽之该阳极电极附近;一第一电解液供应装置(8-1),用以供应第一电解液至该第一水;一第二储存槽(11-2) ,用以储存该阴极活性水;一第二处理槽(3'-2,3"-2),用于自该第二储存槽接收该阴极活性水以该阴极活性水处理一第二目标(303,331)并自其排放第二水;第二重活化回馈装置(12-2-16-2),用于重活化该第二水并馈送重活化之第二水回至该电解槽中该阴极电极附近;及一第二电解液供应装置,用以供应第二电解液至该第二水。111. 一种湿式处理设备,包括:一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b),用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水,一储存槽(11-1),用以储存该阳极活性水;一处理槽(3'-1,3"-1),用以自该储存槽接收该阳极活性水以该阳极活性水处理一目标(303,331)并自其排放水;一重活化回馈装置(12-1-16-1),用以重活化该水并馈送重活化之水回至该电解槽之该阳极电极附近;及一电解液供应装置(18-1),用以供应电解液至该阳极水。112. 一种湿式处理设备,包括:一电解槽(1'),具有一阳极电极(1a)和一阴极电极(1b),用以执行电解于纯水和电解液之一,以在该阳极电极附近产生阳极活性水及在该阴极电极附近产生阴极活性水;一储存槽(11-2),用以储存该阴极活性水。一处理槽(3'-2,3"-2),用以自该储存槽接收该阴极活性水,以该阴极活性水处理一目标(303,331)并自其排放水;一重活化回馈装置(12-2-16-2),用以重活化该水并馈送重活化水回至该电解槽之该阴极电极附近。及一电解液供应装置(18-2),用以供应电解液至该阴极水。图示简单说明:第1图是图说一提议之湿式处理设备之图。第2图是显示电解液恶化之曲线图。第3图是图说根据本发明之湿式处理设备之第一实施例之图。第4图是图说根据本发明之湿式处理设备之第二实施例之图。第5图是第3和第4图之电解槽之详细图。第6图是图说第3和第4图之储存槽之第一范例之图。第7A及7B图是显示第6图之储存槽之氧化还原作用之潜在特性之图。第8图是图说第3和第4图之储存槽之第二范例之图。第9图是图说第3和第4图之储存槽之第三范例之图。第10图是图说第3和第4图之储存槽之第四范例之图。第11图是图说第3和第4图之储存槽之第五范例之图。第12图是图说第3图之储存槽之第一范例之图。第13图是显示湿式处理特性有关于电解液温度之图。第14图是图说第12图之处理槽之改良之图。第15图是图说第4图之处理槽之第一范例之图。第16图是图说第3图之处理槽之第二范例之图。第17图是图说第4图之处理槽之第二范例之图。第18图是图说第17图之处理槽之改良之图。第19图是图说第3图之湿式处理设备之改良之图。第20图是图说第3图之湿式处理设备之另一改良之图。 |
