| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08191051(A) |
申请公布日期 |
1996.07.23 |
| 申请号 |
JP19950237776 |
申请日期 |
1995.08.23 |
| 申请人 |
NOBERASU SYST INC |
发明人 |
EBAAHAADASU PII BANDE BEN;ERIOTSUTO KEI BUROODOBENTO;JIEFURII SHII BENJINGU;BARII ERU CHIN;KURISUTOFUAA DABURIYU BAAKUHAATO;ROORENSU SHII REIN |
| 分类号 |
C30B25/12;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54;C30B25/14;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/683;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C30B25/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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