Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Schichtdicke, der Leitfähigkeit und/oder der Schichtkontaktgüte von auf Substraten aufgetragenen Schichten
摘要
<p>The invention relates to a process for determining the layer thickness(es), the heat conductivity(ies) and/or the layer contact quality of layers or layer systems deposited on substrates using photo-thermal means, in which light is directed on the layer to be measured and the time-dependent temperature rise, temperature drop and/or the maximum amplitude is measured photo-thermally by a detector.</p>
申请公布号
DE19520788(A1)
申请公布日期
1996.07.18
申请号
DE1995120788
申请日期
1995.06.07
申请人
WISSENSCHAFTLICH-TECHNISCHES OPTIKZENTRUM NORDRHEIN-WESTFALEN E.V. (OPTIKZENTRUM NRW), 44799 BOCHUM, DE
发明人
SCHULZ, HARALD HANS, DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT., 58453 WITTEN, DE;KOHNS, PETER, DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT., 53179 BONN, DE