发明名称 |
4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及式(Ic)所示衍生物的两种制法。其一是使式(Ia)所示衍生物在惰性溶剂中同时进行氧化还原制取(Ic)。其二是使式(Ia)所示衍生物在惰性溶剂中进行氧化制得(Ib),然后使(Ib)衍生物在惰性溶剂中进行氧化制取(Ic)。(Ic)衍生物用于制备(Ig)表示的4-脱氧-4-鬼臼毒素衍生物。后者可作抗肿瘤剂的有效成分。上述通式中各符号含义参见说明书。 |
申请公布号 |
CN1126723A |
申请公布日期 |
1996.07.17 |
申请号 |
CN95103396.4 |
申请日期 |
1992.01.25 |
申请人 |
大鹏药品工业株式会社 |
发明人 |
寺田忠史;藤本胜彦;野村诚;山下纯一;武田节夫;小武内尚;山口秀夫;W·康斯坦蒂 |
分类号 |
C07D493/04;//(C07D493/04,317:00,317:00) |
主分类号 |
C07D493/04 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨丽琴 |
主权项 |
1.一种通式(Ic)表示的衍生物的制备方法式中,R4表示甲基、苄氧基、也可是有卤原子的低级烷酰基、或-Si(Rx)(Ry)(Rz)基(其中,Rx、Ry和Rz相同或不同,表示低级烷基或苯基),R7表示-(CH2)mCHO基(其中m为1或2),所述方法的特征在于,使通式(Ia)表示的衍生物在惰性溶剂中同时进行氧化还原,由此制得通式(Ic)表示的衍生物,通式(Ia)为式中,R4的定义同上,R5表示低级链烯基。 |
地址 |
日本东京都 |