发明名称 带隙基准电压产生电路
摘要 提供一种降低了因光照射导致的电压波动的带隙基准电压产生电路。该带隙基准电压产生电路的特征在于包括:由第1导电类型的半导体构成的基板;在上述基板上形成的第1晶体管;在上述基板上形成的、与上述第1晶体管基极共同连接的第2晶体管;在上述基板上形成的、具有第2导电类型、在上述第2晶体管的集电极层和上述基板之间并联连接的光吸收区;以及与上述第1晶体管的基极和第2晶体管的基极共同连接的基准电压输出端子,且上述第1晶体管的集电极层的面积比上述第2晶体管的上述集电极层的面积大。
申请公布号 CN101330083A 申请公布日期 2008.12.24
申请号 CN200810125346.9 申请日期 2008.06.20
申请人 株式会社东芝 发明人 泷场由贵子;田中明广;铃永浩
分类号 H01L27/082(2006.01);H01L27/06(2006.01);H01L27/144(2006.01);G05F3/30(2006.01) 主分类号 H01L27/082(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 岳耀锋
主权项 1.一种带隙基准电压产生电路,其特征在于包括:由第1导电类型的半导体构成的基板;在上述基板上形成的第1晶体管;在上述基板上形成的、针对上述第1晶体管基极共同连接的第2晶体管;在上述基板上形成的、具有第2导电类型、且在上述第2晶体管的集电极层和上述基板之间并联连接的光吸收区;以及与上述第1晶体管的基极和第2晶体管的上述基极共同连接的基准电压输出端子,且上述第1晶体管的集电极层的面积比上述第2晶体管的上述集电极层的面积大。
地址 日本东京都