发明名称 | 喷嘴头之部分 | ||
摘要 | 计的物品是喷嘴头,如使用状态之参考图所示,是利用处理液来处理半导体晶圆2的基板液处理装置3所使用,可更换的安装在用来吐出处理液的吐出管4之前端部的喷嘴头1。在基板处理液装置3中,是在位于利用支撑体5来支撑半导体晶圆2的转盘6之中空内的轴7安装喷嘴头1,在喷嘴头1与转盘6之间形成用来吐出处理气体的吐出口8。此外,在基板处理液装置3中,从形成在喷嘴头1之的吐出管4吐出处理液,同时从形成在喷嘴头1的外周的吐出口8吐出处理气体,藉此来处理半导体晶圆2。本物品,如使用状态之部分放大参考图所示,(a)有时候安装在与吐出管4之前端相同的高度,或者(b)有时候安装在比吐出管4之前端的更下方。 本设计之设计特征在于,由用来插入吐出管4之内孔孔径的顶面(参看俯视图及I-I剖面图)观看,其不具厚度;其与原设计之外观差异在于本设计之内孔孔径与外径相同。如是构成一与原设计近似,且相较先前技艺具特异视觉效果之设计。 各视图之红色半透明填色部分,系为本案不主张设计之部分。 后视图与前视图相对称,后视图省略。 右侧视图与左侧视图相对称,右侧视图省略。 | ||
申请公布号 | TWD175847 | 申请公布日期 | 2016.05.21 |
申请号 | TW104304458D01 | 申请日期 | 2015.08.17 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | |
分类号 | 15-99 | 主分类号 | 15-99 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |