| 发明名称 |
TREATMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08172067(A) |
申请公布日期 |
1996.07.02 |
| 申请号 |
JP19950052574 |
申请日期 |
1995.03.13 |
| 申请人 |
NIPPON TELEGR & TELEPH CORP <NTT> |
发明人 |
KOSUGI TOSHIHIKO;ISHII HITOSHI;ARITA MUTSUNOBU |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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