| 摘要 |
<p>Un appareil (140) d'alimentation en poudre (106) de particules sous-microniques dans un gaz sous pression comprend une chambre supérieure d'alimentation (104), une chambre inférieure de mélange (108), une première conduite d'entrée (142) de gaz, pour introduire un premier gaz sous pression dans la chambre d'alimentation (104) à une première pression, une seconde conduite d'entrée (146) de gaz, pour introduire un second gaz sous pression dans la chambre de mélange (108) à une seconde pression, une conduite de transfert (162) communiquant avec la chambre inférieure de mélange (108) pour transférer un flux de poudre (106) et de gaz sous pression de la chambre de mélange (108) et un régulateur (174) pour conserver un différentiel entre la première pression et la seconde pression pour que la première pression soit inférieure à la seconde pression par une valeur comprise entre au moins 5 psi environ et 30 psi environ. L'appareil (140) peut être utilisé pour modifier une cible (200), par exemple par découpage ou polissage, ou encore pour appliquer un revêtement de fines particules sur cette cible (200).</p> |
