Positiv arbeitende Photolackzusammensetzung,申请号DE19906027099-传众专利搜索

发明名称	Positiv arbeitende Photolackzusammensetzung
摘要
申请公布号	DE69027099(D1)	申请公布日期	1996.06.27
申请号	DE19906027099	申请日期	1990.11.09
申请人	NIPPON ZEON CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	OIE, MASAYUKI, KAMAKURA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;KAWATA, SHOJI, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;YAMADA, YAKAMASA, KOMAKI-SHI, AICHI-KEN, JP;IKEDA, SHINYA, PF NIPPON ZEON CO., LTD., YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP
分类号	G03F7/022;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/022	主分类号	G03F7/022
代理机构		代理人
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