发明名称 | 功率纵向场效应晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种制造纵向场效应晶体管器件的方法,所述方法包括;制成-n型源层12;制成-P+掺碳栅层14;由栅层制成一栅结构;在栅结构上制成-n型漏层以得到一隐埋式掺碳栅结构。所述隐埋式掺碳栅结构提供一小型化且具有良好的导通电阻,结电容,栅极电阻和栅极驱动电压的器件。本发明还包括了其它的器件和方法。 | ||
申请公布号 | CN1032172C | 申请公布日期 | 1996.06.26 |
申请号 | CN93105337.4 | 申请日期 | 1993.04.30 |
申请人 | 德克萨斯仪器股份有限公司 | 发明人 | 袁汉中;唐纳德·L·普鲁顿;泰·S·基姆;弗朗西斯·J·莫里斯 |
分类号 | H01L21/335;H01L29/76 | 主分类号 | H01L21/335 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 竹民 |
主权项 | 1.一种制造纵向场效应晶体管器件的方法,其特征在于,包 括:制造—n型源层;在所述源层上制造—P<sup>+</sup>掺碳的栅层;由所述 栅层制造一栅结构,在所述栅结构上制造—n型漏层。 | ||
地址 | 美国德克萨斯州 |