发明名称 功率纵向场效应晶体管及其制造方法
摘要 本发明提供了一种制造纵向场效应晶体管器件的方法,所述方法包括;制成-n型源层12;制成-P+掺碳栅层14;由栅层制成一栅结构;在栅结构上制成-n型漏层以得到一隐埋式掺碳栅结构。所述隐埋式掺碳栅结构提供一小型化且具有良好的导通电阻,结电容,栅极电阻和栅极驱动电压的器件。本发明还包括了其它的器件和方法。
申请公布号 CN1032172C 申请公布日期 1996.06.26
申请号 CN93105337.4 申请日期 1993.04.30
申请人 德克萨斯仪器股份有限公司 发明人 袁汉中;唐纳德·L·普鲁顿;泰·S·基姆;弗朗西斯·J·莫里斯
分类号 H01L21/335;H01L29/76 主分类号 H01L21/335
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 竹民
主权项 1.一种制造纵向场效应晶体管器件的方法,其特征在于,包 括:制造—n型源层;在所述源层上制造—P<sup>+</sup>掺碳的栅层;由所述 栅层制造一栅结构,在所述栅结构上制造—n型漏层。
地址 美国德克萨斯州