具端末键之烯属烃的制法

摘要

本发明提供一种产制具端末双键之烯属烃，系藉三聚合至少一种选自乙烯，丙烯，和１－丁烯之单体，其包括使用一种包括由下列物质制备之产物：（１）成分（Ａ）：式〔１〕所示之铬化合物CrXmYn 〔１〕其中，Ｘ示羧酸残基，１，３－二酮残基，卤素或烷氧基；Ｙ示胺，膦，膦化氧，亚硝醯基，或醚；ｍ示２－４之整数，且ｎ示０－４之整数，成分（Ｂ）具毗咯环单元或咪唑环单元之杂环化合物，及成分（Ｃ）：或〔２〕所示之铝化合物AlRkZ3-k 〔２〕其中Ｒ示氢原子或具１－１０碳原子之烷基；Ｚ示卤素；且ｋ示１－３之整数，或（２）成分（Ａ）及成份（Ｂ’）：杂环化合物，其具毗咯环单元或咪唑环单元且毗咯环或咪唑环中铝与氮间含一键。依本发明，具端末双键之烯属烃如１－己烯可有效且方便地产制，且此方法在工业应用上亦良好。

主权项

1. 一种产制具端末双键烯属烃之方法,系藉三聚合至少一种选自乙烯,丙烯,和1-丁烯之单体,此方法包括使用一种包括由下列物质制备之产物:成分(A):式[1]所示之铬化合物@qc CrXmYn@fl [1]其中,X示羧酸残基,1,3-二酮残基,卤素或烷氧基;Y示胺,膦,膦化氧,亚硝醯基,或醚;m示2至4之整数,且n示0至4之整数,成分(B)具 咯环单元之杂环化合物,及成分(C):式[2]所示之铝化合物@qc AlR@ssKZ@ss3@ss-@ssK@fl [2]其中R示氢原子或C@ss1-C@ss1@ss0烷基;Z示卤素;且k示1至3之整数。2. 一种产制具端本双键烯属烃之方法,系藉三聚合至少一种选自乙烯,丙烯,和1-丁烯之单体,此方法包括使用一种包括由下列物质制备之产物:成分(A):式[1]所示之铬化合物@qc CrXmYn@fl [1]其中,X示羧酸残基,1,3-二酮残基,卤素或烷氧基;Y示胺,膦,膦化氧,亚硝醯基,或醚;m示2至4之整数,且n示0至4之整数及,成分(B'):具 咯环单元且该 咯环中之氮直接键结至铝之含铝杂环化合物。3. 如申请专利范围第1项之方法,其中除了成份(A),(B)及(C)外,产物进一步由成份(D)(水,醇类,酚或其衍生物)制备。4. 如申请专利范围第1项之方法,其中除了成份(A),(B)及(C)外,产物进一步由成份(E)(酸或酯)制备。5. 如申请专利范围第1项之方法,其中除了成份(A),(B)及(C)外,产物进一步由成份(F)(二烯)制备。6. 如申请专利范围第1项之方法,其中该单体是乙烯。7.如申请专利范围第2项之方法,其中成份(B')系由成份(B)与成份(C)制得,其中所述成份(B)与成份(C)系如申请专利范围第1项定义。8. 如申请专利范围第1项之方法,其中成份(C)为三烷基铝或氢化二烷基铝。9. 如申请专利范围第2项之方法,其中除了成份(A)及(B')外,产物进一步由成份(C)制备,其中成份(C)系如申请专利范围第1项定义。10. 如申请专利范围第9项之方法,其中成份(A)之X是卤原子,Y是胺和/或醚,成份(C)是三烷基铝。11. 如申请专利范围第10项之方法,其中Y是 啶或四氢喃。12. 如申请专利范围第11项之方法,其中成份(A)是三氯三 啶铬(Ⅲ),三氯三(4-乙基 啶)咯(Ⅲ),三氯三(4-异丙基 啶)铬(Ⅲ),三氯三(4-苯 啶)铬或三氯三(四氢喃)铬(Ⅲ),成份(B)是二异丁基铝2,5-二甲基 咯