| 发明名称 |
TREATMENT EQUIPMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER AND TREATMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08162418(A) |
申请公布日期 |
1996.06.21 |
| 申请号 |
JP19940303348 |
申请日期 |
1994.12.07 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD |
发明人 |
AOKI TADASHI |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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