| 发明名称 |
RESIST EXPOSURE DEVICE AND CONTROLLING METHOD THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08162386(A) |
申请公布日期 |
1996.06.21 |
| 申请号 |
JP19940298141 |
申请日期 |
1994.12.01 |
| 申请人 |
NIKON CORP |
发明人 |
FUJIMA TOSHIHISA;NAKAJIMA MASAO |
| 分类号 |
G03F7/20;G03B27/32;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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