| 发明名称 | 半导体晶片清洗剂及其清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种半导体晶片清洗剂及其清洗方法。本发明的含水清洗剂其pH值为1—5，优选为1—3，且含有至少一种表面活性剂和至少一种属于包括琥珀酸和其衍生物化合物在内的一组中的化合物。为了清洗半导体晶片，优选采用机械工具在半导体晶片的侧面产生清洗剂的薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1124763A | 申请公布日期 | 1996.06.19 |
| 申请号 | CN95115577.6 | 申请日期 | 1995.08.25 |
| 申请人 | 瓦克硅电子半导体材料有限公司 | 发明人 | 罗兰德·布朗纳;乔格·霍赫格桑;安东·施奈格;格特奥德·台尔哈默尔 |
| 分类号 | C11D3/20;C11D3/04;H01L21/302 | 主分类号 | C11D3/20 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘国平 |
| 主权项 | 1、一种用于清洗半导体晶片的含水清洗剂，其中所说的清洗剂含有至少一种表面活性剂和至少一种属于包括琥珀酸和其衍生物化合物在内的一组中的化合物，该清洗剂的pH值为1-5，优选为1-3。 | ||
| 地址 | 联邦德国布格豪森 | ||