| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT PRODUCED THEREFROM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08157744(A) |
申请公布日期 |
1996.06.18 |
| 申请号 |
JP19940306762 |
申请日期 |
1994.12.12 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
ICHIKAWA TATSUYA;MINAMI YOSHITAKA;ISHIKAWA TSUTOMU;KAMAKURA YUICHI |
| 分类号 |
G03F7/031;C08K5/34;C08L33/04;C08L33/06;C08L101/00;C09D4/00;C09D4/06;H05K3/06;(IPC1-7):C09D4/06 |
主分类号 |
G03F7/031 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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