| 摘要 |
<p>Ein Plasmareaktor, zum Beispiel ein Parallelplattenreaktor oder ein ICP-Reaktor, umfaßt unter anderem eine Einrichtung zur Plasmaanregung, die mindestens zwei unabhängig voneinander ansteuerbare Teileinrichtungen umfaßt, über die das Plasma an mindestens zwei verschiedenen Orten unterschiedlich anregbar ist. Inhomogenitäten beim Prozeß in dem Plasmareaktor, zum Beispiel bei der Schichtabscheidung oder bei der Ätzung, werden durch entsprechende Ansteuerung der Teileinrichtungen ausgeglichen.</p> |
