半导体工业用清洗剂

摘要

本发明涉及一种清洗半导体硅片表面上黑蜡、松香和石蜡混合物的清洗剂，其组成为3-5％的壬基酚聚氧乙烯醚、4-6％的脂肪醇聚氧乙烯醚、3-5％的N，N′二羟乙基十三酰胺或十二烷基醇酰胺磷酸脂钠、2-4％的三聚磷酸钠、0-5％的异丙醇或乙醇胺、0-10％的乙醇、0-85％的溶剂油或煤油以及余量的去离子水(均为重量百分比)。本发明的清洗剂无毒无腐蚀性，不污染环境，并可降低清洗成本。

主权项

1.一种半导体工业用清洗剂组合物，其特征是，基本组成为： 组分 重量百分比 A、壬基酚聚氧乙烯醚 3-5％ B、脂肪醇聚氧乙烯醚 4-6％ C、N，N′二羟乙基十三酰胺或 3-5％ 十二烷基醇酰胺磷酸脂钠 D、三聚磷酸钠 2-4％ E、异丙醇或乙醇胺 0-5％ F、乙醇 0-10％ G、溶剂油或煤油 0-85％ H、去离子水 余量。