| 发明名称 |
CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAMS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08152717(A) |
申请公布日期 |
1996.06.11 |
| 申请号 |
JP19940295204 |
申请日期 |
1994.11.29 |
| 申请人 |
SUMITOMO CHEM CO LTD |
发明人 |
TAKEYAMA HISAMIKI;KUSUMOTO TAKEHIRO;UEDA YUJI;NAKANO YOSHIKO;OKA HIROMI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F2/50;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/038 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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