| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SURFACE PROFILE OF WAFER OR OTHER THIN LAYER BODY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08152319(A) |
申请公布日期 |
1996.06.11 |
| 申请号 |
JP19940316058 |
申请日期 |
1994.11.28 |
| 申请人 |
KURODA PRECISION IND LTD |
发明人 |
NAOI KAORU;MATSUHASHI YOSHIMITSU |
| 分类号 |
G01B21/30;G01N21/88;G01N21/956;H01L21/66;(IPC1-7):G01B21/30 |
主分类号 |
G01B21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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