发明名称 Behandlungseinrichtung für Halbleiter
摘要
申请公布号 DE69115761(T2) 申请公布日期 1996.06.05
申请号 DE19916015761T 申请日期 1991.06.18
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 ARAI, IZUMI, ASAHI-KU, YOKOHAMA-SHI, JP;TAHARA, YOSHIFUMI, YAMATO-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;HORIUCHI, TAKAO, FUCHU-SHI, TOKYO, JP;FUJISAWA, KUNITOSHI, OOITA-SHI, OOITA-KEN, JP;KOJIMA, HIROSHI 305 GREEN-HEIM-MIDORIYAMA, TOKYO, JP;AOKI, MAKOTO 101 VERDEE-ICHIGAO, YOKOHAMA-SHI, JP
分类号 H01L21/00;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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