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发明名称 Chemical vapor depositions apparatus and method of manufacturing annealed films
摘要
申请公布号 EP0467392(B1) 申请公布日期 1996.06.05
申请号 EP19910112123 申请日期 1991.07.19
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 MIYASHITA, NAOTO;TAKAHASHI, KOICHI;KOYAMA, MITSUTOSHI;NUNOTANI, SHINJI;YANAGIYA, SATOSHI;BABA, YOSHIRO
分类号 H01L21/205;C23C16/44;C23C16/46;C23C16/54;C30B25/10;H01L21/00;H01L21/22;H01L21/31;H01L21/331;H01L29/73;(IPC1-7):C23C16/44;C30B31/10 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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