DEVICE FOR COATING SUBSTRATES USING A VAPOUR PHASE MATERIAL IN A REDUCED PRESSURE OR VACUUM ENVIRONMENT

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten (3) mit einem Materialdampf (6) im Unterdruck oder Vakuum, mit einer Materialdampfquelle (1) sowie mit einer aus kalter Anode (4') und Kathode (4'') bestehenden Ionisationseinrichtung (4) zum Ionisieren des Materialdampfes (6) in einer ein Plasma (7) erzeugenden, durch den Materialdampf bestimmten Bogenentladung zwischen Anode (4') und Kathode (4''). Dabei ist die Materialdampfquelle (1) und die Ionisationseinrichtung (4) mit ihrer Anode (4') und Kathode (4'') elektrisch voneinander getrennt. Dadurch gibt es keinerlei gegenseitige störende Beeinflussung. Ausserdem sind Aufdampfrate und Ionisationsgrad voneinander entkoppelt und somit über einen grossen Bereich unabhängig voneinander variier- und optimierbar.