首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Plasma processing method
摘要
申请公布号 EP0474244(B1) 申请公布日期 1996.05.22
申请号 EP19910115085 申请日期 1991.09.06
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 FUKASAWA YOSHIO;MOMOSE KENJI
分类号 H01L21/3065;H01L21/302;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com