| 发明名称 |
METHOD OF ESTIMATING OCTAHEDRAL HYDROGEN DEPOSIT PRESENT IN VICINITY OF SURFACE OF SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08124984(A) |
申请公布日期 |
1996.05.17 |
| 申请号 |
JP19940253632 |
申请日期 |
1994.10.19 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP;MITSUBISHI MATERIALS SHILICON CORP |
发明人 |
SATO HIROKI;SHIOTA TAKAAKI;MURAKAMI YOSHIO;FURUYA HISASHI |
| 分类号 |
G01N33/00;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
G01N33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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