| 发明名称 |
METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH OZONE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08124888(A) |
申请公布日期 |
1996.05.17 |
| 申请号 |
JP19940253822 |
申请日期 |
1994.10.19 |
| 申请人 |
MITSUBISHI GAS CHEM CO INC |
发明人 |
TANAKA KAZUNARI;SAKAITANI HISASHI;ISHIUCHI MASAO;YOSHIDA HIROSHI |
| 分类号 |
C11D7/02;C11D7/32;H01L21/304;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
C11D7/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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