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发明名称 METHOD FOR GROWING OXIDE LAYERS IN AN INTEGRETED CIRCUIT FABRICATION PROCESS
摘要
申请公布号 EP0595464(A3) 申请公布日期 1996.05.15
申请号 EP19930307481 申请日期 1993.09.22
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 GARDNER, MARK I.;FULFORD, HENRY JIM, JR.;SEATON, JAY J.
分类号 H01L21/28;H01L21/316;H01L21/762;H01L21/8247;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/316;H01L21/82;H01L21/310;H01L21/265 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
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