| 摘要 |
<p>Na základní materiál se nanese první tenká vrstva, která má malou adhezi k základnímu materiálu. Potom se v první tenké vrstvě vytvoří póry o velké hustotě dosahující přinejmenším k povrchu základního materiálu, například metodou fotolitografického leptání. Potom se na první tenké vrstvě vytvoří druhá tenká vrstva, která má vysokou adhezi k základnímu materiálu pro fixování nebo zajištění první porézní tenké vrstvy k základnímu materiálu. Na povrchové části základního materiálu se mohou vytvořit vybrání, která dále zvyšují fixaci první porézní tenké vrstvy k základnímu materiálu.ŕ</p> |
