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发明名称 NOVOLAK RESIN FOR POSITIVE PHOTORESIST
摘要
申请公布号 KR960006405(B1) 申请公布日期 1996.05.15
申请号 KR19870012598 申请日期 1987.11.09
申请人 SUMITOMO CHEMICAL IND. K.K. 发明人 OI, FUMIO;OSAKI, HARUYOSHI;FURUDA, AKIHIRO;UEMURA, YUKIKAZU;NINOMIYA, TAKAO;UETANI, YASUNORI;HANABATA, MAKOTO
分类号 G03C1/72;C08G8/00;C08G8/08;G03F7/023;(IPC1-7):C08G8/08;G03F7/085 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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