| 摘要 |
<p>Es soll im Zeitmittel eine möglichst hohe Leistung in die Niederdruckentladung eingespeist werden. In jeder Polung soll die gleiche Leistung eingespeist werden, obwohl sich die Impedanz stark unterscheidet. In einer Anlage zur Plasma- und Oberflächentechnik mit mindestens zwei Elektroden und einer Stromversorgung werden die Ausgänge von mindestens zwei potentialfreien Gleichstromversorgungen derart geschaltet, daß ein Ausgang der einen mit einem gleicher Polarität der anderen leitend verbunden werden. Über einen mit jeder Zuleitung zu den Elektroden in Verbindung stehenden Schalter, deren andere Ausgänge zusammengeschlossen an die anderen Ausgänge der Gleichstromquelle geführt sind, werden mittels eines Taktgebers im Rhythmus der Polwechselfrequenz diese Schalter betätigt. Bei Auftreten einer Bogenentladung werden die Schalter geöffnet. Das Verfahren wird zum bipolaren Pulssputtern zur Abscheidung elektrisch isolierender Schichten auf Werkstücken verwendet. Vorzugsweise werden derartige Schichten zum mechanischen Schutz, Verschleißschutz und zur Verbesserung der Gleiteigenschaften verwendet.</p> |
